- kaiyun首页:山东产研微纳请求碳化硅-碳氮化硅-氮复合薄膜及其制备办法专利防止传统单一薄膜因应力不匹配导致的结构翘曲、裂纹萌发或脱层问题
国家知识产权局信息数据显现,山东产研微纳与智能制作研讨院有限公司请求一项名为“一种碳化硅-碳氮化硅-氮化硅复合薄膜及其制备办法”的专利,公开号CN121823466A,请求日期为2025年12月。
专利摘要显现,本发明触及半导体资料技术领域,详细触及一种碳化硅‑碳氮化硅‑氮化硅复合薄膜及其制备办法。本发明供给的碳化硅‑碳氮化硅‑氮化硅复合薄膜,经过层间梯度组分规划,能有用抵消MEMS器材制备过程中(如堆积、退火、刻蚀)产生的剩余应力,防止传统单一薄膜因应力不匹配导致的结构翘曲、裂纹萌发或脱层问题。
天眼查资料显现,山东产研微纳与智能制作研讨院有限公司,成立于2020年,坐落济南市,是一家以从事研讨和试验开展为主的企业。企业注册资本3300万人民币。经过天眼查大数据分析,山东产研微纳与智能制作研讨院有限公司参加招投标项目19次,专利信息11条,此外企业还具有行政许可5个。
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